主要優點

•   配備了納米壓印光刻工具，它綜合了熱壓印以及紫外納米壓印光刻，在步進和重復模式下，可對至高達300毫米的晶圓進行處理
•   20納米以下的印刷分辨率以及250納米的堆疊精度，應用范圍非常廣：圖案化媒體存儲、光學、生物等……
•   可以添加惰性氣體來提高印制速度
•    精度高、液體配料少
•   自動印模拾取，具有較高靈活性，并且印模尺寸從50/65毫米可擴展到100毫米
•   手動或自動化晶圓裝載/卸載
•   空氣軸承技術以及花崗巖結構確保了長期的穩定性和可靠

工藝能力

用于熱壓印或紫外納米壓印光刻的步進和印模印刻技術是芬蘭VTT技術研究中心已經驗證過的創 新方法。

•  熱壓印技術：該方法包括通過控制熱量和壓力將印模圖案轉印到熱塑性壓印材料中
•  紫外納米壓印光刻技術：是一種使用原位印刻配料以及紫外固化的步進和固化方法。當需要20納米以下的分辨率時，這種尖 端技術就成為了一種替代標準紫外光刻系統的非常有前景的解決方案。

應用

•   光子器件
•   高精度微光陣列和光柵
•   CMOS-MEMS集成
•   高分辨率OLED顯示器
•   用于移動存儲的高密度HDD
•   其他新興技術

納米壓印光刻技術

納米結構的低成本生產方案正在開發中，這可能是半導體、MOEMS與光電子技術未來發展的驅動力。特別是，納米壓印光刻技術（NIL）及其變體已發展成為一種具有成本效益的技術，它可以替代高分辨率電子束光刻技術來印刷小于20納米的幾何形狀。

印刻的原理是采用熱或是紫外線固化工藝，使用帶有納米圖案的印模對聚合物薄膜進行機械按壓。帶有圖案的聚合物可以作為至終設備，例如成像傳感器的透鏡、微流控芯片、生物醫學陣列等。它也可以作為一種高分辨率掩模應用于隨后的工藝步驟中。

印刻是一種簡單的光刻技術。它有三個基本的工藝步驟：

•   將印模與已預涂印刻材料的基板進行對準
•   將印模壓入印刻材料以轉印印模表面上的圖案
•   將印模從印刻材料中分離出來

我們可以描述三種印刻或壓印技術：熱壓印技術 (HEL)，其使用熱塑性材料；紫外納米壓印技術（UV-NIL），其使用液體抗蝕劑并在成型后用紫外光進行固化；以及軟光刻技術，其使用沖壓方法將預先在軟印模上處理好的油墨轉印到基板上。